- 硅片清洗的幾種方法
硅片清洗的(de)幾種方(fang)(fang)(fang)法 20 世紀70 年代以前(qian)，清洗半導體材料所用的(de)方(fang)(fang)(fang)法仍是較為傳統的(de)方(fang)(fang)(fang)法，主要為機械法和化學(xue)法。機械法采用在(zai)清洗劑中進(jin)行(xing)超聲或刷子(zi)刷洗。前(qian)一種方(fang)(fang)(fang)法常引起(qi)硅片 . . .
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