- 研究納米臭氧/H2O2工藝去除半導體廢水中TMAH
強調 納(na)米臭氧(yang)/ H2O2工藝在pH 10和(he)25C下對(dui)TMAH的去(qu)除效(xiao)果好(hao)。 使用納(na)米臭氧(yang)時，氣體傳(chuan)質和(he)臭氧(yang)氣體的半衰期增加了 納(na)米臭氧(yang)/ H2O2反應產(chan)生了可除去(qu)TMAH的OH自由基。 在90分鐘(zhong)內(nei)，TMAH中80％ . . .
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