- 半導體使用臭氧水清洗處理方法
半導體使用(yong)臭氧水(shui)清洗處理方法(fa) ①減(jian)少化(hua)學藥(yao)品(pin)的使用(yong) a) 半導體用(yong)化(hua)學藥(yao)品(pin)一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和SC2 (HCl/H2O2/DIW)，但是(shi)SC1 和SC2是(shi)相對較貴，并且需在60-100 ℃的高溫(wen)條(tiao)件下發生作用(yong) . . .
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