- 半導體使用臭氧水清洗處理方法
半導體使用臭(chou)氧水清(qing)洗處理方法 ①減少化學藥品(pin)的使用 a) 半導體用化學藥品(pin)一般包(bao)括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和(he)SC2 (HCl/H2O2/DIW)，但(dan)是SC1 和(he)SC2是相對較貴，并且需(xu)在60-100 ℃的高溫條件(jian)下發生作(zuo)用 . . .
- 硅片清洗的幾種方法
硅片(pian)清(qing)洗的幾種方(fang)(fang)法(fa)(fa) 20 世紀70 年(nian)代以前(qian)，清(qing)洗半導體材料所(suo)用的方(fang)(fang)法(fa)(fa)仍是較為(wei)傳統的方(fang)(fang)法(fa)(fa)，主要為(wei)機(ji)(ji)械法(fa)(fa)和化學(xue)法(fa)(fa)。機(ji)(ji)械法(fa)(fa)采用在清(qing)洗劑中(zhong)進行超(chao)聲(sheng)或刷子刷洗。前(qian)一種方(fang)(fang)法(fa)(fa)常(chang)引起(qi)硅片(pian) . . .
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