- 某半導體公司用于高濃度臭氧水
某半導(dao)體公(gong)司用(yong)于(yu)高濃度(du)(du)臭(chou)(chou)氧(yang)(yang)水(shui) 高濃度(du)(du)臭(chou)(chou)氧(yang)(yang)水(shui)是通(tong)過將臭(chou)(chou)氧(yang)(yang)氣體溶解到水(shui)中(zhong)而(er)制成的(de)，通(tong)常(chang)用(yong)于(yu)消毒(du)、去味、氧(yang)(yang)化和水(shui)處理等領(ling)域。想要獲得高濃度(du)(du)臭(chou)(chou)氧(yang)(yang)水(shui)，需要臭(chou)(chou)氧(yang)(yang)發生器產(chan)生的(de)臭(chou)(chou)氧(yang)(yang) . . .
- ALD、半導體用臭氧發生器有哪些品牌
近些年(nian)半導體(ti)、ALD蓬勃發展，臭(chou)氧(yang)(yang)被(bei)電子工業用于形成 CVD 和 ALD 薄(bo)膜(mo)、氧(yang)(yang)化物生長、光刻(ke)膠去除和多種清潔應(ying)用。我們介(jie)紹(shao)幾款能滿足(zu)半導體(ti)行業用的 臭(chou)氧(yang)(yang) 發生器 。 1、美國SEMOZON A . . .
- 半導體使用臭氧水清洗處理方法
半導體(ti)使(shi)用臭氧水清洗(xi)處理(li)方法 ①減少化學(xue)藥品的使(shi)用 a) 半導體(ti)用化學(xue)藥品一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和(he)SC2 (HCl/H2O2/DIW)，但(dan)是SC1 和(he)SC2是相對較(jiao)貴，并且需(xu)在60-100 ℃的高溫條件下發生作用 . . .
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